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    VS7000是一款高性能、低成本、小型化的光谱仪,配备了高量子效率的背照射CCD,拥有高达5600:1的动态响应范围。标配CCD具有90%的峰值量子效率、感光单元高300μm、无anti-blooming。同时HORIBA还提供具有更高动态范围(7000:1)、anti-blooming功能的CCD(另有1mm高可选)。 VS7000非常适用于弱光测量的应用,如荧光和诸多发射光谱。
    最新推出HORIBA PG-300系列,操作简单易懂,使用更加轻松,便携式设备随时随地的均可带来实验室级的精确度。便携式PG-300能在现场监测5种关键气体组分,可提供和实验室测量一样的准确度和可靠度。与现有型号的气体分析仪相比,它的响应速度更快,同时重量减轻了20%。另外,预热时间也被缩短了一段,这非常有利于进行现场测量。PG-300还有一个让操作更简单的触摸屏,它全新的设计可让设备本身免受冲击和振动,这些特征均改善了它在现场的实用性。
    UVISEL 2 椭圆偏振光谱仪 最高的精确度、重复性、灵敏度配备了样品可视系统集成了世界上最小的无色差微光斑专利技术,光斑尺寸最小可达到35μm专业的DeltaPsi2软件平台
    UVISEL光谱型相调制椭圆偏振仪(SPME)是一款独一无二的仪器,它采用光弹性晶体来调制偏振光,而不是传统椭偏技术中的机械偏光装置。相调制技术在性能上和多种实验功能方面有着显著的优势。与传统椭偏仪相比,UVISEL光谱型椭偏仪能够在全谱范围内测得非常准确的椭偏角(Y, D),从而可以对透明衬底、超薄薄膜和折射率接近的样品进行高精度和高灵敏度的特性分析。相调制技术的原理,使得UVISEL光谱型椭偏仪能够进行先进的参数测量,包括极化度、各向异性以及Mueller矩阵元素的确定。高达1毫秒/每数据点的快速数据采集速率,使得UVISEL成为动态研究和液态表面测量的理想解决方案。UVISEL是一台多功能的光谱型椭偏仪。它覆盖了190nm到2100nm的宽光谱范围,而且提供了一系列的自动选件和附件来增强系统的功能、满足您的实验需求。模块化的设计使得UVISEL配置灵活,可以离线、在线甚至为减小占地面积和满足超净间要求而集成到一个机柜中。
    2011年HORIBA Scientific推出了全球首台同时测定紫外-可见吸收光谱和荧光光谱仪(三维荧光)-Aqualog®。三维荧光光谱的获取速度是其它荧光仪的百倍,耦合于origin的专用荧光软件自动溯源硫酸奎宁校准、修正内滤效应以及瑞利和拉曼散射线,并且可以将矩阵数据快速输出用于多变量分析,例如,平行因子分析(PARAFAC)。
    高空间和高光谱分辨率 可覆盖紫外至近红外波段 操作方便,功能明确 超快速共焦成像 可与其他测试技术联用 超低波数检测 可选择最佳的样品分析条件
    多年以来,HORIBA销售的EDXRF分析仪和XGT-WR系列为客户提供RoHS,ELV和无卤检测,对含有害元素如Pb,Cd,Hg,Br,Cr,Cl,As,Sb等的样品进行筛选式测量,如今在世界范围内广泛使用。基于大量客户的要求,HORIBA凭借长期的经验开发出全新的EDXRF分析装置MESA-50 。它将为您提供友好的操作界面和优异的使用性能。 MESA-50具有三种尺寸的准直器可用于各种大小的样品,从细长的电线、微小的电子器件到大型的样品。结合SDD检测器和HORIBA首创的DPP处理器,MESA-50将为您带来EDXRF的全新体验。MESA-50是HORIBA全新的生态采购支持仪器,不仅适合于欧洲的RoHS,ELV,也适用于其他地区的各种法规。
    实时的干涉测量设备,提供蚀刻/镀膜制程中高精度的膜厚及蚀刻沟深度检测。单色光打在样品表面,由于膜厚和高度变化导致不同的光路长度时,使用干涉测量法。通过循环,系统能在监控区使用实时监测的方法计算蚀刻和镀膜的速度,在规定的膜厚和槽深来进行终点检测。基于这个相对简单的理论,系统不但非常稳定,并且可用于复杂的多层薄膜。
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